Pesquisa Numérica da Composição do Plasma Tecnológico Equilibrado do Tipo (H + O + Ar + C + Al)

Authors

  • A.P. Spilimbergo
  • V.G. Kriukov
  • R.L. Iskhakova

DOI:

https://doi.org/10.5540/tema.2006.07.01.0127

Abstract

Neste trabalho desenvolve-se uma pesquisa teórica sobre meios reagentes ionizados aperfeiçoando o modelo de equilíbrio químico de meios reagentes neutros. Foi ampliado o limite superior da temperatura na base de dados, de 6000 K até 20000 K. Foi revelada a importância do nível de precisão se forem usados polinômios de alto grau. As simulações numéricas realizadas para o meio ionizado complexo (H + O + C + Ar + Al) revelam que: as espécies tri-moleculares e condensadas são destruídas até a temperatura de 4000 K; os elétrons começam a ser gerados para temperaturas de 3000 K, por conta da ionização do Al; as moléculas e radicais bi-atômicos dissociam-se até temperaturas de 8000 a 9000 K; a massa molecular apresenta dois nítidos intervalos de redução e o calor específico no equilíbrio apresenta três máximos.

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A.P. Spilimbergo, V.G. Kriukov, R.L. Iskhakova e C.J. Auth, Modelo de equilíbrio químico aplicado a meio reagente ionizado complexo, em Proceedings do XXIV CILAMCE, em publicação, 2003.

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Published

2006-06-01

How to Cite

Spilimbergo, A., Kriukov, V., & Iskhakova, R. (2006). Pesquisa Numérica da Composição do Plasma Tecnológico Equilibrado do Tipo (H + O + Ar + C + Al). Trends in Computational and Applied Mathematics, 7(1), 127–137. https://doi.org/10.5540/tema.2006.07.01.0127

Issue

Vol. 7 No. 1 (2006)

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